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第493章 针锋相对的硬刚（第2页）
《论稳态微聚束SSMB的未来应用场景》
如果对于这个论文不太熟悉的话，那么而这份设计方案还有一个名字。
光刻工厂！
是的，在王东来前世的时候，就曾经有过一段时间出现了铺天盖地的相关营销文章。
ASML打造小而精的光刻机，这是为了出口赚钱。
而华国作为被制裁的国家，地大物博，又不用出口，完全可以直接采用一种相反的研发理念。
那就是将光刻机进行扩大化。
从小小的一台光刻机，变成一个占地巨大的光刻工厂。
理想状态下的光刻机，一天24小时可以生产600×400颗芯片，也就是二十四万颗芯片，除去其中的次品之后，一天能剩下二十万颗左右。
但是，要注意到这是理想状态下。
实际上，一台光刻机的工作效率受到很多种因素的影响，包括光刻机的型号、工艺、晶圆大小、芯片尺寸和复杂度等。
不同型号的光刻机在光源系统、光学镜头、双工作台等方面的差异，直接决定了光刻机的分辨率、套刻精度和生产效率。
最后，理想状态下可以一天生产二十万合格芯片的光刻机，其实能够生产出来的芯片仅仅只有两万左右。
但是，如果换成光刻工厂的话，主打的就是一个量大实惠。
一次性可以生产的芯片，远远超过光刻机，不管是理想状态下的生产数量还是实际生产数量，都会暴打光刻机。
只是，在前世的时候，对于光刻工厂的真实性和可信性，根本没有得到学术界的承认。
王东来此世早就生出了这样的想法。
而在学习到了相关知识之后，王东来也明白了此事的难度。
理想很美好，现实很骨感。
想要完成光刻工厂的设想，难度极大。
绝对不比研发出一台高性能的EUV光刻机简单。
甚至，从某一种方面来说，难度还要更大。
然而，天才就是天才。
如果换成其他人的话，根本不可能有实现的可能性。
毕竟，将一款成熟的技术进行扩大化，可不是简单的扩大就行了。
要做到这一点，就必须要对该技术有极为深刻的了解和清楚的认知。
如此，才能将这个技术成功地扩大化，并应用在实际上。
等离子刻蚀机突破了，EDA设计软件成型了，先进设计方案也验证成功了，光刻胶也完成了。
现在，在半导体领域还差光学镜头、晶圆片、硅晶体等材料和设备了。
这些都很重要，可是，还远远比不上光刻设备的重要。
有着前世的记忆，王东来知道明年将会是一个新的开始。
白头鹰上台的那位商人头领，可不是一个好相与的。
手里挥舞着制裁大棒，可是给了全球狠狠一棒。
不过，这一棒对于国内还是有好处的，打蒙一部分人的同时，也打醒了一部分人。
抛开侥幸心理之后，国内在很多领域上都完成了突破，以国产取代进口。
王东来知道这件事，自然不会错过。
好风凭借力，送我上青云。
